手机版 |
产品分类 |
半导体行业专用仪器
全自动芯片分选系统
等离子开封设备
无掩模曝光机
PermiNex™光刻胶
SU-8光刻胶轮廓修改剂
Copolymer系列光刻胶
PMMA电子束光刻胶
光刻胶- PriElex®Jettable高分子材料
gL2000电子束负性光刻胶
老化板上下料机4800
光学仪器及设备
超短脉冲激光器
新一代多功能/高分辨率成像光谱仪与单色仪
锁相放大器
Kuro背照式科研级CMOS探测器
SOPHIA快速低制冷温度CCD探测器
X-Ray CCD探测器系列
原子力显微镜Dimension FASTSCAN (AFM / SPM / STM))
PyLoN液氮制冷红外CCD光谱探测器
IsoPlane成像光谱仪
便携式光谱仪
制样/消解设备
气体等离子系统IoN Wave 10
等离子清洗系统PS 400, PS 400 H2
等离子清洗系统GIGA 690
等离子清洗系统GIGA 80 Plus
纳米压印机
纳米压印机
纳米压印模板
纳米压印模板
反应式离子蚀刻机
反应式离子蚀刻机
电子测量仪器
微波/射频信号发生器(BNC 835-3-M)
微波/射频信号发生器(BNC 835-3)
微波/射频信号发生器(BNC 835-6-R)
微波/射频信号发生器(BNC 835-6)
微波/射频信号发生器(BNC 845-M)
微波/射频信号发生器(BNC 845-H)
微波/射频信号发生器(BNC 845)
数字脉冲延时信号发生器
数字脉冲延时信号发生器(BNC745新)
测量/计量仪器
自动光学检测系统(AOI) - Supra Era系列
自动光学检测系统Falcon 800
光学轮廓仪
台阶仪
自动光学检测系统
光谱检测分析仪
可擕式科研级拉曼光谱仪
FERGIE高集成、零像差光谱仪
CRS单级显微拉曼光谱系列
三级拉曼系统
其他
全自动原子层沉积系统(ALD)
全自动原子层沉积系统(ALD)
金/碳镀膜机
无损检测/无损探伤仪器
快速手持物质识别仪
超声波扫描显微镜
合成/反应设备
晶圆键合机
晶圆键合机
电化学仪器
激光开盖机
自动塑封开封设备
X射线仪器
X射线检测设备
比表面积测定仪
纳米压痕仪
分离/萃取设备
离心机9070
恒温/加热/干燥设备
Heller -回流焊炉/垂直式固化炉
清洗/消毒设备
紫外臭氧清洗机
试验机
热变形外貌检测仪
联系方式 |
产品系列
产品描述
美国JELIGHT
紫外臭氧清洗机
美国JELIGHT成立于一九七八年,一直致力于为科研,工业生产领域涉及和制造紫外相关产品。主要产品包括:紫外灯,臭氧发生器,芯片记忆消除器(Wafer and EPROM Erasers-CHIPnERASER),紫外臭氧清洗机。
**型号!!
紫外臭氧清洗机 Model 18
Model 42 Series
UV SUPRASIL灯 Ozone Killer Blower
应用实例:
镀膜或涂胶前彻底清洗表面有机污染
去除光刻胶、基片蓝膜去除
清洁焊剂,混合电路以及平板LCD显示器
刻蚀Teflon,Viton和其它
增强塑料表面的镀膜的粘附性
增强GaAs和Si氧化物钝化表面
Si片表面生长氧化层
多用于半导体生产中晶元及光刻板清洗,光学镜头、太阳能面板清洗,氧化物生长表面改性。
臭氧发生器
型号:2000、1000和600可产生臭氧浓度超过6000ppm。进出的端口为直径1/4"。可调试流量计,**流量5L/min。使用者可依照臭氧浓度的需求调整。机器内提供冷却系统,增强紫外线灯的寿命。
CHIPnERASER
工作光强高于市场其它产品25%数字计时器及操作完成自动报警,自动关闭功能光照均匀,确保快速完全擦除纯金属机柜快速放样/取样托盘安全互锁设计,避免UV误曝光。
臭氧浓度检测器
(Ozone monitor)
型号:Model 465L微处理器控制,监测下限3 PPb自检测报警功能,标配温度及气压补偿,快速反应可选择1,3和6路气体监控可通过程序设置尝试报警。
紫外线擦除器
(EPROM Erasers)
托盘设计,便于快速取放芯片数字计时器,自动关闭并报警全金属主机设计,坚固耐用可堆叠放置,节省空间全安互锁功能。